便攜式涂鍍層測(cè)厚儀

leeb232型便攜式涂鍍層測(cè)厚儀是磁性、渦流一體的便攜式覆層測(cè)厚儀，它能快速、無(wú)損傷、*地進(jìn)行涂、鍍層厚度的測(cè)量；既可用于實(shí)驗(yàn)室，也可用于工程現(xiàn)場(chǎng)；
廣泛地應(yīng)用在制造業(yè)、金屬加工業(yè)、化工業(yè)、商檢等檢測(cè)領(lǐng)域；是材料保護(hù)*必備的儀器。
leeb232型便攜式涂鍍層測(cè)厚儀符合以下標(biāo)準(zhǔn)：
GB/T4956-1985磁性方法；
GB/T4957-1985渦流方法；
JB/T8393-1996磁性和渦流覆層測(cè)厚儀；
JJG889-95《磁阻法測(cè)厚儀》；
JJG818-93《電渦流式測(cè)厚儀》。
leeb232型便攜式涂鍍層測(cè)厚儀功能與特點(diǎn)
采用了磁性和渦流兩種測(cè)厚方法，可無(wú)損地測(cè)量：
磁性金屬基體(如鋼、鐵、合金等)上非磁性覆層厚度(如鋅、鋁、鉻、銅、橡膠、油漆等)；
非磁性金屬基體(如銅、鋁、鋅、錫等)上非導(dǎo)電覆層厚度(如:橡膠、油漆、陽(yáng)極氧化膜等)
具有兩種測(cè)量方式：連續(xù)測(cè)量方式（CONTINUE）和單次測(cè)量方式（SINGLE）
具有兩種工作方式：直接方式(DIRECT)和成組方式(Appl)
設(shè)有五個(gè)統(tǒng)計(jì)量：平均值、*大值（MAX）、*小值（MIN）、測(cè)試次數(shù)（NO．）、標(biāo)準(zhǔn)偏差
可采用兩種方法對(duì)儀器進(jìn)行校準(zhǔn),并可用基本校準(zhǔn)法對(duì)測(cè)頭的系統(tǒng)誤差進(jìn)行修正
具有存貯功能：可存貯500個(gè)測(cè)量值
具有刪除功能：對(duì)測(cè)量中出現(xiàn)的單個(gè)可疑數(shù)據(jù)進(jìn)行刪除，也可刪除存貯區(qū)內(nèi)的所有數(shù)據(jù)
可設(shè)置限界：對(duì)限界外的測(cè)量值能自動(dòng)報(bào)警；并可用直方圖對(duì)一批測(cè)量值進(jìn)行分析
具有打印功能：可打印測(cè)量值、統(tǒng)計(jì)值、限界、直方圖
具有電源欠壓指示功能
操作過(guò)程有蜂鳴聲提示
具有錯(cuò)誤提示功能，通過(guò)屏顯或蜂鳴聲進(jìn)行錯(cuò)誤提示
設(shè)有兩種關(guān)機(jī)方式：手動(dòng)關(guān)機(jī)方式和自動(dòng)關(guān)機(jī)方式
leeb232型便攜式涂鍍層測(cè)厚儀技術(shù)參數(shù)
測(cè)頭類型：F和N
測(cè)量原理：磁感應(yīng)|或者電渦流
測(cè)量范圍：0-1250um|0-1250um0-40um(銅上鍍鉻)
低限分辨力：0.1um
探頭連接方式：一體化
示值誤差：F|N
一點(diǎn)校準(zhǔn)(um)：±[3%H+1]
兩點(diǎn)校準(zhǔn)(um)：±[（1%~3%）H+1]
一點(diǎn)校準(zhǔn)(um)：±[3%H+1.5]
兩點(diǎn)校準(zhǔn)(um)：±[（1%~3%）H+1.5]
測(cè)量條件：F|N
*小曲率半徑(mm)：凸1.5|凹9
基體*小面積的直徑(mm)：ф7
*小臨界厚度(mm)：0.5
*小曲率半徑(mm)：凸3|凹10
基體*小面積的直徑(mm)：ф5
*小臨界厚度(mm)：0.3
溫濕度：0~40℃|20%RH～90%RH
統(tǒng)計(jì)功能：平均值、*大值（MAX）、*小值（MIN）、測(cè)試次數(shù)（NO．）、標(biāo)準(zhǔn)偏差
工作方式：直接方式(DIRECT)和成組方式(Appl)
測(cè)量方式：連續(xù)測(cè)量方式（CONTINUE）和單次測(cè)量方式（SINGLE）
上下限設(shè)置：有
存儲(chǔ)能力：500個(gè)測(cè)量值
打印/連接計(jì)算機(jī)：可選配打印機(jī)/不能連接電腦
關(guān)機(jī)方式：手動(dòng)和自動(dòng)
電源：二節(jié)AAA型（7號(hào)）1.5V電池
外形尺寸：110×50×23mm
重量：100g
leeb232型便攜式涂鍍層測(cè)厚儀標(biāo)準(zhǔn)配置
leeb232主機(jī)；
探頭F或N；
鐵基體或鋁基體；
標(biāo)準(zhǔn)片一套；
儀器保護(hù)套；
使用說(shuō)明書；
合格證書；
包裝箱。
可選配
鐵基體和鋁基體；
標(biāo)準(zhǔn)片；
TA230打印機(jī)。